Q32.
晒版曝光過度時會造成
網版製版印刷 · 丙級 · 工具儀器使用 · Q32
難易度分析
3 / 5
本題要求區分曝光量過多與不足時對印紋造成的不同影響。由於需要精確辨別對立的現象及其產生的物理機制，且選項中設有容易混淆的干擾項，因此被評定為中等難度。
正確答案：③印紋縮小
③ 印紋縮小:曝光過度時，紫外線產生光散射（Undercut現象），使原本應被底片遮蓋而未硬化的區域也發生交聯反應，導致顯像後網版開孔率降低，印紋因此縮小。
錯誤選項解析
- ① 版面黏膩:版面黏膩是曝光不足的典型症狀，因感光乳劑未完全硬化，於水洗顯像時膠膜軟化發黏；曝光過度反而使膠膜過度硬化而不會黏膩。
- ② 印紋放大:印紋放大與曝光過度的實際效果相反；曝光過度會使光散射效應導致非圖紋區的感光膠也硬化，使可印刷的網孔面積縮小而非放大。
- ④ 印紋缺損:印紋缺損通常由網版髒污、感光膠塗佈不均或底片密著不良所造成，並非曝光過度的直接結果；曝光過度的主要特徵是印紋整體縮小而非局部缺損。
Learning Tip
"晒版曝光控制是網版製版的核心考點，常考曝光過度與曝光不足的症狀判別。切記：曝光過度→光散射→印紋縮小、線條變細；曝光不足→硬化不完全→版面黏膩、鋸齒狀邊緣。實務上應以曝光測試片（21級灰階）定期校正曝光時間，確保感光乳劑達到最佳交聯度。"
學員答題分佈
①版面黏膩0%
②印紋放大0%
③印紋縮小0%
④印紋缺損0%
此答題分佈是根據學員在 LongePass 模擬考等實際作答紀錄計算而成。與考友分享這道歷屆試題與詳細解析！