Q114.
下列選項，哪些在單晶繞射法與多晶繞射法中是相同的？
化學─有機物檢驗 · 甲級 · 有機一般分析 · Q114
難易度分析
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此題需評估各選項是否適用於兩種繞射法，並辨別基礎原理與應用層面之差異。多選要求同時判斷四項真偽，提升判斷負荷。
正確答案 (複選)：①, ②, ④
- ① 基本公式:Bragg 定律（nλ = 2d sinθ）是 X 射線繞射的基礎公式，無論單晶或多晶繞射法皆以此公式計算晶面間距與繞射角。
- ② 單色X 射線源:兩種繞射技術均需使用單色 X 射線源（如 Cu Kα 輻射），以確保波長固定，才能依據 Bragg 條件產生可解析的繞射訊號。
- ④ 檢測器:兩種方法皆需使用 X 射線檢測器（如閃爍計數器或 CCD 檢測器）來記錄繞射強度與角度訊號，檢測器的基本原理相同。
錯誤選項解析
- ③ 測定晶胞參數:單晶繞射法可直接精確測定完整的三維晶胞參數，而多晶（粉末）繞射法因繞射峰重疊問題，晶胞參數的精確度受限，兩者在此項目的能力與精確度不同。
Learning Tip
"本題核心在於區分「繞射基本原理」與「應用能力」的差異。Bragg 定律、單色光源與檢測器屬於兩種方法共通的硬體與理論基礎；而晶胞參數測定屬於應用層面，單晶繞射可獲得完整三維結構資訊，粉末繞射則因Debye-Scherrer 環造成峰重疊，解析度較低。常考陷阱為混淆「原理相同」與「解析能力相同」的概念。"
學員答題分佈
①基本公式0%
②單色X 射線源0%
③測定晶胞參數0%
④檢測器0%
此答題分佈是根據學員在 LongePass 模擬考等實際作答紀錄計算而成。與考友分享這道歷屆試題與詳細解析！