Q210.
以AAS 火焰法分析金屬時,下列哪些方法無法去除離子化干擾?
化學─無機物檢驗 · 甲級 · 無機儀器分析 · Q210
難易度分析
4 / 5
題目要求先辨識離子化干擾與其他干擾類型,再判斷各處理方式對離子化平衡的影響。考生須先確定哪些方法屬於非離子化干擾處理,從而排除它們。多選設計要求同時選出兩個正確選項,增加了判斷與記憶的負擔,故難度偏高。
正確答案 (複選):①, ②
- ① 採用背景校正:背景校正用於消除分子吸收干擾與光散射干擾(如氘燈校正或塞曼效應校正),其原理是扣除背景吸收訊號,與離子化干擾的抑制無關。
- ② 溶劑萃取:溶劑萃取屬於樣品前處理技術,用於濃縮待測金屬或分離基質成分,無法改變火焰中原子的離子化平衡狀態,因此不能去除離子化干擾。
錯誤選項解析
- ③ 採用較低溫之火焰:採用較低溫火焰(如空氣-乙炔焰取代氧化亞氮-乙炔焰)可有效降低火焰溫度,減少金屬原子的熱離子化程度,是去除離子化干擾的有效方法之一,故本選項敘述錯誤。
- ④ 添加更易離子化之元素:添加更易離子化之元素(如銫 Cs 或鉀 K 等游離抑制劑)可在火焰中產生大量自由電子,使待測金屬的離子化平衡向原子態移動,為標準的離子化干擾抑制技術,故本選項敘述錯誤。
Learning Tip
"本題核心考點在於區分AAS 各類干擾的對應消除方法:離子化干擾需靠降低火焰溫度或添加游離抑制劑;背景干擾需靠氘燈或塞曼效應校正;化學干擾需靠釋放劑或保護劑;光譜干擾需靠更換分析波長線。實務上常混淆「背景校正」與「離子化抑制」的功能,應特別注意兩者的作用機制完全不同。"
學員答題分佈
①採用背景校正0%
②溶劑萃取0%
③採用較低溫之火焰0%
④添加更易離子化之元素0%
此答題分佈是根據學員在 LongePass 模擬考等實際作答紀錄計算而成。與考友分享這道歷屆試題與詳細解析!